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荷兰ASML光刻机技术封锁
作者:PBSNPR
发表时间:2017-09-19
更新时间:2017-09-19
浏览:254次
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每台售价超过1亿欧元的EUV光刻机,ASML卖了18台

每每提到半导体行业发展,免不了要说下中国最近两年发展集成电路的决心之强、投资之大,国内公司对人才也求贤若渴,不惜高薪挖人,但在关键技术上,我们落后欧美公司还是挺多的,特别是在半导体制造装备上,先进的光刻机还被欧美封锁,有钱也买不到。

进入10nm工艺节点之后,EUV光刻机越来越重要,全球能产EUV光刻机的就是荷兰ASML公司了,他们总共卖出18台EUV光刻机,总价值超过20亿欧元,折合每套系统售价超过1亿欧元,可谓价值连城。

纳米(符号 nm,英式英文:nanometre、美式英文:nanometer,字首 nano 在希腊文中的原意是“侏儒”的意思),是一个长度单位,指1米的十亿分之一(10-9m)。

现时很多材料的微观尺度多以纳米为单位,如半导体制程标准在2000年代以后大多是以纳米表示。

光刻工艺需要光刻机,全球有能力生产光刻机的公司不多,日本尼康、佳能也有这方面的技术,但目前只能混迹低端市场,能玩转高端市场、特别是EUV光刻机的只有荷兰ASML公司了,这也是Intel、TSMC、三星等晶圆厂都在争取的新一代生产装备。

该公司日前发布了2016年财报,全年营收67.95亿欧元,同比增长8%,毛利率44.8%,净利润14.7亿欧元,同比增长6%。

2016年Q4季度新卖出6台EUV光刻机,如此一来ASML公司售出的EUV光刻机总量就达到了18台,总价值超过20亿欧元,算下来平均每台设备超过1亿欧元,放在全球来看,单一设备能达到这个价格的也没几个。

根据ASML公司所说,2017年他们预计交付12套EUV光刻机,芯片厂商大规模量产EUV光刻工艺预计会在2018年底到2019年初,也就是在7nm节点及之后才会量产EUV工艺。

上海微电子装备提供覆盖前道IC制造90nm节点以上大规模生产所需,包含90nm、110nm和280nm等不同分辨率节点要求的ArF、KrF及i-line步进扫描投影光刻机。该系列光刻机可兼容200mm和300mm硅片。

提示: 本博文来自于 Military 版

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